祝贺Yue和Chenyu其共同第一作者的论文"Dopant-Mediated Carrier Tunneling in Short-Channel Two-Dimensional Transistors"发表于Materials Chemistry Frontiers！该论文被收录于庆祝ShanghaiTech University建校十周年的专题合集中。
在本工作中，利用第一性原理计算和量子输运模拟，我们尝试揭示了短沟道二维晶体管中单原子掺杂剂的电子功能，这些掺杂剂根据沟道长度的不同，既可以作为促进载流子隧穿的"中继站"，也可以作为降低源漏电流的散射中心。
